INTRODUCTION

On a déjà observé la structure cristalline très fine des dépôts électrolytiques minces obtenus sur une cathode polie mécaniquement (1). L'examen microscopique d'une telle surface, sur laquelle on a déposé une très faible quantité de métal, a toujours été utilisé dans les recherches relatives aux vitesses de formation et de grossissement des germes en

fonction de différents facteurs, parmi lesquels la composition de la solution, la densité de courant et la température (2). On a reconnu que la distribution et la croissance de ces germes sont pratiquement les mêmes quel que soit le métal poli utilisé comme cathode. C’est par l'examen des coupes de dépôts électrolytiques épais sur des surfaces polies que l’on a mis en évidence les deux types de structure caractéristiques des divers métaux et des conditions

de l’électrolyse : a) structure microcristalline des métaux de la famille du fer, quelles que soient les conditions, et des autres métaux déposés dans les

solution de sels complexes; b) structure constituée .

de gros cristaux nettement formés pour les dépôts de cuivre, zinc, argent, etc., à partir des solutions de leurs sels simples.

L'étude des dépôts électrolytiques sur les cathodes cristallines est relativement récente. W. Blum et Rawdon (3) montrèrent les premiers, en 1923, l'importance considérable de la propreté de la surface sur la cristallisation d’un dépôt de cuivre. Depuis de nombreux chercheurs tentèrent d'éclaircir ce que l’on a appelé le phénomène de la « continuité cristalline », c’est-à-dire la continuation du réseau cristallin de la cathode dans le dépôt. Dans ce but les méthodes modernes de diffraction des rayons X et des électrons furent employées en même temps que la technique micrographique classique. Le grand nombre de travaux paru sur cette question (4) se justifie par son intérêt théorique et pratique.

L'étude systématique de l'influence du support cathodique sur la cristallisation des couches très minces de cuivre électrolyticue fera l’objet de ce chapitre.