‹ Répertoire encyclopédique de photographie (volume 2)Chapitre 208 sur 231 · GRAVURE PïïOTOLÎTHOGRAPBIQUE : (Morvan, 1863). {Grav · texte numérisé non relu

GRAVURE PïïOTOLÎTHOGRAPBIQUE : (Morvan, 1863). {Grav

hél.)

§ 1. L’épreuve qui sert ordinairement à la photolithographie (894) est une épreuve négative', l’image que l’on grave sur la pierre est alors positive, et Timpression sur papier fournit aussi une épreuve positive renversée. •

Dans le nouveau procédé, on insole directement la pierre sous la gravure ou le dessin à reproduire. Il y a donc une dissemblance bien tranchée entre les deux méthodes, puisque les résultats obtenus sont absolument inverses.

§ 2. La pierre lithographique est recouverte, au blaireau, d’une

couche mince de vernis, composé de :

Bichromate d’ammoniaque (159) 50 gr.

Albumine (46) 300

La surface étant séchée, on l’expose à la lumière extérieure sous la gravure ou le dessin à reproduire. Le temps d’exposition dépend de l’épaisseur du cliché et de l’intensité de la lumière; mais on peut dire quhl faut, en moyenne, 2' à 3' au soleil et 10' à l’ombre. Rentrant dans le cabinet, on enlève le cliché, rien ne s^est manifesté sur la pierre. On lave la surface au savon de Marseille, les parties solubles (c’est-à-dire celles qui n’ont pas vu la lumière) sont entraînées, et la pierre se creuse légèrement en ces endroits ainsi mis à nu ; tandis que partout où la lumière a agi, Toxyde de chrome formé étant insoluble, résiste à l’action du savon : on procède à l’encrage, on étend

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